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這款CVD系統(tong)集(ji)真(zhen)空管式(shi)爐，多通(tong)道氣(qi)路(lu)系統(tong)和真(zhen)空系統(tong)組成，可(ke)根據用(yong)(yong)戶(hu)需要設計生產（有雙(shuang)溫(wen)區(qu)、三溫(wen)區(qu)、多溫(wen)區(qu)），可(ke)預抽真(zhen)空（有高真(zhen)空、低真(zhen)空），通(tong)多種氣(qi)氛(fen)（供氣(qi)系統(tong)有質子流量器和浮子流量控(kong)(kong)制(zhi)器）。性能可(ke)靠(kao)。控(kong)(kong)制(zhi)電路(lu)選用(yong)(yong)模糊(hu)PID程控(kong)(kong)技術(shu)，具有控(kong)(kong)溫(wen)精(jing)度高，溫(wen)沖幅度小，性能可(ke)靠(kao)，簡單(dan)易操作等(deng)特(te)點。

PECVD系統是一種基于等(deng)(deng)離(li)子體化學氣相沉(chen)積(ji)技術的薄(bo)膜沉(chen)積(ji)設(she)備，能(neng)夠對各種材料進行薄(bo)膜沉(chen)積(ji)，包(bao)括金屬、半導體、絕緣(yuan)體等(deng)(deng)。PECVD技術在微電子、光(guang)電、平板顯(xian)示、儲能(neng)等(deng)(deng)領域具有(you)重要的應用價值。